原创 荷兰光刻机新规，震动全球芯片业，中国供应链自给已经按下加速键
网传荷兰政府出台了新规，禁止出口14纳米及以上DUV光刻机设备，我国这个时候也开始加速研发国产光刻机，这种关键设备实在不能让别人卡脖子。
同时，我国也就安世半导体的问题向荷兰政府施压。
安世半导体的问题算是得到了“局部解决”，11月7日荷兰经济大臣卡雷曼斯表示，安世中国工厂将会恢复供货。
这次荷兰政府的松口，不仅仅是因为中美领导人会晤，更多的是对世界车企的影响，相信同在欧盟的德国，也对荷兰施了不少压。
此次安世半导体的供应中断，让世界各地的车企纷纷计划缩减产量，这并不是夸张，或者站在我国立场上的单方面认为，日本汽车工业协会就在之前表示安世半导体可能无法保证芯片交付，这可能对全球汽车生产造成严重影响。
本田汽车已经开始调整北美地区多家工厂的汽车生产计划，墨西哥中部塞拉亚的汽车工厂甚至已经停产。
欧洲汽车制造商协会也表示现在欧洲车企正依赖日益减少的库存维持工厂运转，就连美国的汽车协会也透露了同样的担忧。
所以，荷兰这位经济大臣除了宣布这个消息外，还表示相信芯片会恢复向各地的供应。
至于荷兰政府的新规，是将DUV光刻机设备的出口限制从7纳米下调至14纳米，ASML的1970i、1980i等中阶机型都纳入许可证管理，也就是说荷兰政府放松了管控阿斯麦的光刻机。
这是我国和荷兰政府会谈后的成果，是一个重要的胜利。
值得一提的是，也是在宣布安世半导体恢复供货的当天，阿斯麦的执行副总裁、中国区总裁沈波委婉的表示未来阿斯麦在中国的份额将会下降。
因为他表示过去两年，ASML在中国市场的净销售额占比较高，未来只是从近两年的高基数水平回落到历史正常水平，但是也尤其的提到，这并不意味着中国市场正在下滑。
虽然态度比较暧昧，但是算是温和。
这个时候谁不高兴？毫无疑问的，是美国。
在之前美国国会的“中国问题特别委员会”就经常炒作中国企业和阿斯麦的合作，还点名了五家半导体核心企业，表示和中国合作就是威胁到美国国家安全，这五家公司分别是荷兰的阿斯麦、日本的东京电子、美国的应用材料、科磊和泛林公司。
而我国企业去年从这些公司采购了价值380亿美元的半导体制造设备，占五家公司总营收的39%。
明明是正常的商业合作，但是却要炒作成威胁国家安全，甚至要出台法律限制，我国的体量确实没有办法和美国抗衡，但是也是仅次于美国市场的存在，并且现在半导体是一个新兴产业，我国企业和这些企业合作没有一丝的问题。
其实这件事情在去年就发生过，阿斯麦的首席执行官克里斯托夫·富凯在去年就预言，随着时间推移，美国牵头以“国家安全”之名限制阿斯麦对华出口变得更像是“出于经济动机”。
并且就像之前提到的，这次是“下调”也就是说这并不是荷兰政府第一次限制阿斯麦光刻机的出口，在去年九月的时候就宣布，扩大光刻机出口管制范围至浸没式深紫外光刻设备，也就是上面提到的DUV，当时的借口就是在当前的地缘政治背景下下。
值得一提的是，更先进的极紫外光刻机早就被完全禁止出口中国。
这些事情证明了两个事实，一是美国政府对我国半导体的封锁和打压，二是关键技术确实不能掌握在别人的手上，尽管荷兰政府这边松口了一下，但是自己有才是最好的。
首先要明白的是，荷兰的极紫外光刻机也是走了三十年，接近于我国建国时间的一半，所以，对于国产光刻机的发展还是需要耐心的，但是我国的进步也是值得肯定的。
氟化氪光刻机、氟化氩光刻机中氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，是一个巨大的突破。
现在市场光刻机市场主流有汞线、氟化氪、氟化氩、浸润式氟化氩、极紫外五大类，尽管我国没有达到阿斯麦现在禁止的浸润式水平，但是也是在追赶了。
我国的氟化氩光刻机，在具体指标上，与阿斯麦的TWINSCAN NXT：1470以及TWINSCAN XT：1460K类似。
我国现在光刻机国产化率也低，在至少五年内需要一方面重点发展90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键，一方面重点布局国内半导体零组件发展。
值得一提的是，阿斯麦光刻机的零部件其实大多数也是国外产的，甚至还有我国，但是因为阵营的存在，在关键技术上，“多元化”是我国最不需要的，“自制”和“国产”才是重点。
资源方面，“多元化”才是需要的。
光刻机的核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、等，配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等，就光刻胶这一配套，要说道的地方就很多。
先说说现有的，据东兴证券，波长光电是国内激光光学元件的主要供应商，目前，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力，物镜系统方面，茂莱光学已经实现产业化。
但是比起成就，更多的是危机，现在，单单就光刻胶一点，超过八成的光刻胶都仍依赖进口。
如果说断光刻机，可以拿以前的光刻机去生产，但是说断光刻胶，在三个月之内我国就会一筹莫展。
所以，要发展的地方还有很多，革命尚未成功，同志仍需努力。
参考资料：
中国新闻网《中国商务部回应安世半导体问题》
环球时报《荷兰阿斯麦：预计明年中国市场需求将大幅下滑》
澎湃新闻《光刻机研制为什么难》
观察者网《中方发布稀土新规后，阿斯麦为出货延迟做准备》